You are here

Spray Pyrolysis Yöntemi ile Elde Edilen CdZnS Filmlerinin Yapısal Özelliklerine Hazırlama Parametrelerinin Etkisi

Effect of Deposition Parameters on The Structural Properties of CdZnS Films Produced by Spray Pyrolysis Method

Journal Name:

Publication Year:

Keywords (Original Language):

Abstract (2. Language): 
The compound semiconductor films have been produced by various deposition methods. In present study, it is investigated one of spray pyrolysis method among these methods. Pyhsical properties of produced films dependent on various deposited parameters. Produced films by this method are exibited polycrystalline structure. This method which is the simplest and most economical is used a good many. Therefore, interest to the produced film by this method has increased. CdZnS films were produced at 275oC substrate temperatures and changed some of the deposition parameters.
Abstract (Original Language): 
Bileşik yarıiletken filmler farklı yöntemlerle elde edilmektedir. Bu çalışmada, bu yöntemlerden biri olan spray pyrolysis yöntemi incelenmiştir. Elde edilen filmlerin fiziksel özellikleri değişik elde etme parametrelerine bağlıdır. Bu yöntemle elde edilen filmler polikristal yapıda oluşmaktadır. Bu yöntemin çok kullanılmasının nedeni basit ve ekonomik bir yöntem olmasından kaynaklanmaktadır. Bu nedenle spray pyrolysis yöntemi ile film elde edilmesine ilgi artmaktadır. CdZnS filmleri 275oC taban sıcaklığında ve hazırlama parametrelerinden bazıları değiştirilerek elde edilmiştir.
22-30

REFERENCES

References: 

[I] T. Yamaguchi, Y. Yamamoto, T. Tanaka and A. Yoshida, Thin Solid Films, 1996, 281-282, 375-378.
[2] T. Yamaguchi, Y. Yamamoto, T. Tanaka and A. Yoshida, Thin Solid Films, 1999, 343-344, 516-519.
[3] J. Torres and G. Gordillo, Thin Solid Films, 1997, 310, 310-316.
[4] V. Kumar, V. Singh, S.C. Sharma and T.P. Sharma, Optical Materials, 1998, 11, 29-34.
[5] J. Lee, W. Song, J. Yi and Y. Yoo, Solar Energy Materials & Solar Cells, 2003, 75, 227-234.
[6] H.S. Kim, H.B. Im and J.T. Moon, Thin Solid Films, 1992, 214, 207-212.
[7] M. Kobayashi, J. Ueno, M. Enami, S. Katsuta, A. Ichiba, K. Ogura, K. Onomitsu and Y. Horikoshi, Journal of Crystal Growth, 2005, 278, 273-277.
[8] M. Kobayashi, III-VsReview, 2005, 17, 30-33.
[9] R.R. Chamberlin and J.S. Skarman, J. Electrochem. Soc., 1966, 113, 86-89.
[10] W. Siefert, Thin Solid Films, 1984, 121, 275-282.
[II] Y. Caglar and M. Zor, Anad. Uni. J. Sci. and Tech., 2003, 4, 53-58. [12] JCPDS file reference number Card No: 160869.
[13] JCPDS file reference number Card No: 210829.
[14] JCPDS file reference number Card No: 400836.
[15] S. Ilıcan and M. Zor, Anad. Uni. J. Sci. and Tech., 2003, 4, 47-52.
[16] JCPDS file reference number Card No: 351469.

Thank you for copying data from http://www.arastirmax.com